• Sample preparation
    • Magnetron sputtering
    • Ion-beam sputtering
    • Pulsed laser deposition
    • Electron-beam lithography
  • Structural and chemical characterization
    • SEM – Scanning Electron Microscopy
    • XRR – X-ray Reflectometry
    • XRD – X-ray Diffraction
    • LEED, RHED (Low Energy Electron Diffraction, High Energy Electron Diffraction)
    • XRF – X-ray Fluorescence
    • XPS and AES spectroscopy
    • Profilometer (measurements of thin films thickness)
  • Static magnetic measurements
    • VSM – Vibrating Sample Magnetometer
    • GMR – Giant Magneto Resistance
    • P-MOKE Magnetometer
    • P-MOKE Microscopy
  • Dynamic magnetic measurements
    • VNA-FMR – Vector Network Analyzer – Ferromagnetic Resonance
    • FMR – Ferromagnetic Resonance
    • PIMM – Pulsed Inductive Microwave Magnetometer
  • High vacuum and electrochemical equipment for hydrogen absorption/desorption with optical or electrical monitoring
  • Prezentacja wyposażenia

AparaturaAparatura

 

Laboratorium UHV wyposażone w zespół komór o średnim ciśnieniu bazowym 5x10-9 mbar (PREVAC), pozwalających na preparatykę ultracienkich warstw i nanostruktur metodami PVD (naparowania EBV oraz termiczne), a także ich późniejszą kompleksową analizę powierzchniową (struktury krystalograficznej –LEED, RHEED; i elektronowej) z wykorzystaniem mikroskopii i spektroskopii skaningowej (home-made SPM) oraz rentgenowskiej spektroskopii fotoelektronów (XPS- VG Scienta).

Laboratorium UHV